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对黄斑瓷壳和正常瓷壳进行了电性能测试、化学及烧氢烘烤等一系列试验,证明了高压老炼后真空灭弧室瓷壳黄斑的形成是由于氧化铝晶格配位结构的变化引起的,它不影响真空灭弧室的电气性能,而且加热至650℃后即可消除.
真空灭弧室瓷壳黄斑的形成机制及消除措施
【摘 要】
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对黄斑瓷壳和正常瓷壳进行了电性能测试、化学及烧氢烘烤等一系列试验,证明了高压老炼后真空灭弧室瓷壳黄斑的形成是由于氧化铝晶格配位结构的变化引起的,它不影响真空灭弧室
【机 构】
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大连理工大学电气工程与应用电子技术系,大连铁路卫生学校,锦州华光电力电子集团公司
【出 处】
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高压电器
【发表日期】
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2004年6期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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