“湿法腐蚀装置”技术转让

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骊山微电子公司研制的一种“湿法化学腐蚀装置”是一种用于腐蚀介质薄膜的装置,这种装置特别适用于半导体器件生产工艺中的氮化硅(Si_3N_4)介质薄膜的湿法腐蚀。该装置 Lishan Microelectronics developed a “wet chemical etching device” is a device for corrosive dielectric film, this device is particularly suitable for semiconductor device manufacturing process of silicon nitride (Si_3N_4) dielectric film wet method corrosion. The device
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