New Bi-metallic Single Source Precursors for the Deposition of Thin Films of Semiconductor Ceramics

来源 :材料科学技术学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：y56

【摘要】

：

为薄 filmsof 的免职的稳定的二进制单身的来源先锋( SSP )作文 SnO-GeO 的陶器的半导体被靠近的电路化学药品 vapourdeposition ( CCCVD )综合 method.Elemental 分析和分光

【作者】

：

U. Salma M. Mazhar J.I. Akhter

【机构】

：

DepartmentofChemistry,PhysicsDivision

【出处】

：

材料科学技术学报：英文版

【发表日期】

：

2007年2期

【关键词】

：

铋-金属单源前驱物半导体陶瓷薄膜沉积 CCCVD Single source precursors CCCVD Organotin carboxylates

【基金项目】

：

The authors acknowledge MoST, Goverment of Pakistan for the financial grant No. HRD-93/MR（2）805ASA （TRG） and the British Council, Islamabad Pakistan for Charles Wallace Trust Award.

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为薄 filmsof 的免职的稳定的二进制单身的来源先锋( SSP )作文 SnO-GeO 的陶器的半导体被靠近的电路化学药品 vapourdeposition ( CCCVD )综合 method.Elemental 分析和分光镜的技术习惯于 characterizethe precursors.Scanning 电子显微镜学( SEM )和精力散光谱学(版本) employedto 描绘薄 films.Resistivity 大小被进行出现电影 areof 半导体的自然。

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