硼微晶玻璃源扩散在RCGTO中的应用

来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：isongnosi

【摘要】

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将硼微晶玻璃源均匀扩散条件及浓度控制方法用于ＲＣＧＴＯｐ基区扩散，研制成功２００Ａ／１０００ＶＲＣＧＴＯ。 The boron glass-ceramic source uniform diffusion conditions and concentration control method for

【作者】

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陈辉明吴益良向群

【机构】

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浙江大学电力电子技术研究所

【出处】

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半导体技术

【发表日期】

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1995年01期

【关键词】

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微晶玻璃 RCGTO 浓度控制基区杂质扩散均匀扩散杂质浓度热应力均匀性装片

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将硼微晶玻璃源均匀扩散条件及浓度控制方法用于ＲＣＧＴＯｐ基区扩散，研制成功２００Ａ／１０００ＶＲＣＧＴＯ。 The boron glass-ceramic source uniform diffusion conditions and concentration control method for RCGTOp base diffusion, the successful development of 200A / 1000VRCGTO.

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