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调节反应气体中O2的比例和RF电源的功率可以增加本征施主VO的形成焓,降低本征受主VZn和O1的形成焓,制备出p型ZnO薄膜;采用掺杂金属Al制备出低电阻n型ZnO薄膜,在此基础上得到性能可观的ZnO同质p-n结。
ZnO同质p-n结的研究
【摘 要】
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调节反应气体中O2的比例和RF电源的功率可以增加本征施主VO的形成焓,降低本征受主VZn和O1的形成焓,制备出p型ZnO薄膜;采用掺杂金属Al制备出低电阻n型ZnO薄膜,在此基础上得到性能可观的ZnO同质p-n结。
【机 构】
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中国科技大学物理系,合肥,230026 中国科技大学物理系,合肥,230026;中国科学院中国科技
【出 处】
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中国真空学会第六届全国会员代表大会
【发表日期】
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2004年1期
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