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壳熔法是利用高频感应电源加热使原料内部熔化并由水冷系统在其外围形成硬壳作为坩埚的一种晶体生长技术,特别适合于高温和难熔晶体的生长。本文介绍了壳熔法晶体生长原理和特点,综述了壳熔法生长立方氧化锆晶体的研究进展,探讨了壳熔法的其它工业应用,包括高温合金的铸造、核废料的处理、多晶硅的制备等。
壳熔法生长技术及其应用
【摘 要】
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壳熔法是利用高频感应电源加热使原料内部熔化并由水冷系统在其外围形成硬壳作为坩埚的一种晶体生长技术,特别适合于高温和难熔晶体的生长。本文介绍了壳熔法晶体生长原理和
【机 构】
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上海应用技术学院材料工程系,中国科学院上海硅酸盐研究所
【出 处】
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人工晶体学报
【发表日期】
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2009年1期
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