AlN／W多层体共挠过程中的应力

来源 :硅酸盐学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hghyxx_0918

【摘要】

：

研究了１８５０℃高温烧结ＡｌＮ／Ｗ多层体烧结应力状态和产生原因，结果表明ＡｌＮ与Ｗ在１８５０℃共烧时，不同阶段烧结应力状态有所不同，在升温阶段，Ｗ层受平面拉应力作用，Ｗ层烧结速率降低，导致表面Ｗ膜内存在的大量空洞

【作者】

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梁彤翔王英华

【机构】

：

清华大学核能技术设计研究院,清华大学材料科学与工程系

【出处】

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硅酸盐学报

【发表日期】

：

1998年3期

【关键词】

：

应力多层基板电子封装氮化铝陶瓷烧结 stress multilayer substrates electronic packaging AlN cer

【基金项目】

：

国家自然科学基金

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研究了１８５０℃高温烧结ＡｌＮ／Ｗ多层体烧结应力状态和产生原因，结果表明ＡｌＮ与Ｗ在１８５０℃共烧时，不同阶段烧结应力状态有所不同，在升温阶段，Ｗ层受平面拉应力作用，Ｗ层烧结速率降低，导致表面Ｗ膜内存在的大量空洞，而内部Ｗ布线受到径向拉应力的作用，在保温阶段，与表面Ｗ焊盘接触的ＡｌＮ受到拉应力的作用，与内部Ｗ线接触的ＡｌＮ受到环向拉应力的作用，由于环向拉应力的存在，导致ＡｌＮ的烧结速度帮烧结密度显

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