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采用Ti靶和A1203靶在Ar、N2混合气氛中进行反应磁控溅射的方法，制备了一系列不同AlON层厚度的TiN／A10N纳米多层膜，利用EDS，XRD、HRTEM和微力学探针研究了AlON的形成条件以及AlON调制层厚的改变对多层膜生长方式和显微硬度的影响．结果表明，在Ar、N2混合气氛中对Al2O3进行溅射，N原子会部分取代Al2O3中的。原子，形成非晶态的AlON化合物．在TiN／A10N纳米多层膜中，由于TiN晶体层的模板效应，AlON层在厚度小于0．6nm时被强制品化并与TiN形成共格外延生长结构，