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采用射频磁控溅射技术，以不同Eu、Mg掺杂比的ZnO／MgO／Eu203陶瓷靶材，制备了Eu、Mg共掺的ZnO薄膜（ZMEO）。通过x射线衍射（XRD）、Raman散射及光致发光（PL）技术研究了Eu、Mg掺杂比对ZMEO薄膜微观结构和光致发光性能的影响。结果表明：所制备的ZMEO薄膜皆为六角纤锌矿型结构。适当的Eu、Mg掺杂比不但有利于ZnO晶粒的生长，而且可以引入缺陷俘获导带电子，促进ZnO和Eu^3＋之间的能量传递，使Eu^3＋的红光发射强度获得提升。