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利用离子柬溅射诱导实验方法,在单晶Si(100)基底上辅助沉积银膜,研究了低能Ar+离子束30。入射时,不同离子束能量和束流密度以及基底温度对Ag纳米结构的影响.结果表明:在较低基底温度下(32~100℃)辅助沉积银膜,膜层表面会呈现排列紧密、晶粒尺寸一致的金字塔状纳米结构.当温度升高时(32~200℃),纳米微结构横向尺寸λ2迅速增加,而粗糙度先减小(32~100℃)后迅速增大(100~200℃);当离子束能量1400eV、束流密度15~45uA/cm2时,在相同温度下,随着离子束束流密度的增大,纳米晶