【摘 要】
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磁控溅射靶表面磁场分布与靶材刻蚀特性、薄膜沉积均匀性密切相关。为确定合适的磁控靶结构参数以改善靶材表面水平磁场分布均匀性,采用Comsol软件建立矩形平面磁控溅射靶三
【基金项目】
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国家自然科学基金项目(51575269),江苏省六大人才高峰资助计划项目(ZBZZ-005)
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磁控溅射靶表面磁场分布与靶材刻蚀特性、薄膜沉积均匀性密切相关。为确定合适的磁控靶结构参数以改善靶材表面水平磁场分布均匀性,采用Comsol软件建立矩形平面磁控溅射靶三维模型,对靶材表面磁场分布进行模拟与分析,研究永磁体结构尺寸和磁轭尺寸对磁场分布的作用规律,得到靶材表面水平磁场分布均匀、水平磁感应强度范围合理的溅射靶结构参数。研究结果可提高磁控溅射靶磁场模拟准确性,对溅射靶结构参数的选择具有指导作用。
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