氮掺杂多孔薄层石墨烯的制备、表征及电容性能研究

来源 :信阳师范学院学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:cs19890126
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以氧化石墨烯(GO)为原料、硫酸铵((NH 4)2 SO 4)为动态气体模板剂,采用浸渍结合焙烧工艺制备了氮掺杂多孔薄层石墨烯(p-Gr).利用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、X-射线衍射(XRD)、X-射线光电子能谱(XPS)、拉曼光谱(Raman)、氮气吸附-脱附(N 2 adsorption-desorption)等手段对所得材料进行了表征,并考察了不同硫酸铵用量对所制材料电容性能的影响.结果表明,与未活化的石墨烯(Gr)相比(S BET=70.5 m^2/g),所制p-Gr-40具有更大的
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