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通过激光脉冲沉积法（PLD）在Si衬底上沉积了双钙钛矿结构La2NiMnO6（LNMO）薄膜。用HP4284ALCR仪等分析测试手段研究了薄膜异质结的电流-电压特性和电容-电压特性。结果表明La：NiMn06／Si异质结也表现出了与传统相似的p-n整流特性。
双钙钛矿La2NiMnO6／Si薄膜异质结的电学特性研究
【摘 要】
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通过激光脉冲沉积法（PLD）在Si衬底上沉积了双钙钛矿结构La2NiMnO6（LNMO）薄膜。用HP4284ALCR仪等分析测试手段研究了薄膜异质结的电流-电压特性和电容-电压特性。结果表明La：NiMn06
【机 构】
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东南大学物理系
【出 处】
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化工时刊
【发表日期】
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2011年7期
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