ADI发布高电压工业应用新工艺模拟IC

来源 :电子产品世界 | 被引量 : 0次 | 上传用户：bluegini2008

【摘要】

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美国模拟器件公司（Analog Devices，ADI)近日发布了一种创新的半导体制造工艺iCMOS(工业(2MOS)，它将高电压半导体工艺与亚微米CMOS(互补金属氧化物半导体)和互补双极型工艺相结合

【出处】

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电子产品世界

【发表日期】

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2004年12B期

【关键词】

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CMOS 模拟IC ADI 半导体工艺美国模拟器件公司高电压工业半导体制造工艺双极型自动化亚微米

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美国模拟器件公司（Analog Devices，ADI)近日发布了一种创新的半导体制造工艺iCMOS(工业(2MOS)，它将高电压半导体工艺与亚微米CMOS(互补金属氧化物半导体)和互补双极型工艺相结合，使诸如工企自动化和过程控制等高电压应用在性能、设计和节省成本方面达到了更高水平。与采用传统CMOS制造工艺不同，

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