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一台设备被设计并且集合了分析分子的玻璃(MG ) 除去在极端下面的光致抗蚀剂紫外(EUV ) 暴露。与不同部件和 tert-butoxycarbonyl (t-Boc ) 的不同集中光致抗蚀剂除去，产生相片的酸(PAG ) ，和酸 quencher 系统地被调查。基于实验，减少 MG 光致抗蚀剂除去的一些解决方案被建议。