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用浸透法对孔隙度为12%～17%的烧结钨进行了渗铜试验,研究了影响低铜含量的W-Cu材料室温бb及渗铜组织均匀性的因素,研究结果表明,铜对钨骨架的强化和韧化机制对提高W-Cu材料的室温бb有重要作用;钨骨架具有合适的孔隙度是W-Cu材料获取均匀一致的渗铜组织的重要条件.
W—Cu材料室温强度和组织均匀性的影响因素
【摘 要】
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用浸透法对孔隙度为12%～17%的烧结钨进行了渗铜试验,研究了影响低铜含量的W-Cu材料室温бb及渗铜组织均匀性的因素,研究结果表明,铜对钨骨架的强化和韧化机制对提高W-Cu材料的
【机 构】
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西安市三鑫有色金属加工厂
【出 处】
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中国钨业
【发表日期】
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2002年2期
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