【摘 要】
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通过高温固气反应对α-Keggin结构的K4SiW12O40,K6[SiFe(OH2)W11O39],K7[SiFe3(OH2)3W9O37]和K10[SiMg3(OH2)3W9O37]进行了氯化钕扩渗研究.经X射线能谱(EDS)和X射线光电子能
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通过高温固气反应对α-Keggin结构的K4SiW12O40,K6[SiFe(OH2)W11O39],K7[SiFe3(OH2)3W9O37]和K10[SiMg3(OH2)3W9O37]进行了氯化钕扩渗研究.经X射线能谱(EDS)和X射线光电子能谱(XPS)分析表明氯化钕可渗入到化合物的体相中.X射线粉末衍射(XRD)谱图表明,扩渗后原母体化合物的笼型结构被破坏,WO6八面体重新键合形成四方结构的钾钨青铜化合物K0.57WO3,晶胞参数a=b=1.230 2 nm,c=0.383 55 nm.
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