【摘 要】
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采用喷雾热解法制备了氟掺杂的二氧化锡（fluorine-doped tin oxide,FTO）薄膜,氟源分别为NH4F、SnF2、CF3COOH和HF。采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜对薄膜微观结构和表面形貌
【机 构】
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燕山大学材料科学与工程学院,唐山学院环境与化学工程系,燕山大学国防科学技术学院
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采用喷雾热解法制备了氟掺杂的二氧化锡（fluorine-doped tin oxide,FTO）薄膜,氟源分别为NH4F、SnF2、CF3COOH和HF。采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜对薄膜微观结构和表面形貌进行了表征;用四探针电阻仪、霍尔效应仪和紫外分光光度计对薄膜的光电性能进行了分析。结果表明,不同氟源制备的FTO薄膜均为沿（200）方向择优生长的四方金红石结构,掺杂后薄膜的表面形貌较未掺杂时变化较大,由多角状和棱柱状颗粒相间分布变为完全由类金字塔状颗粒堆积而成。四种氟源中,以SnF2为氟源制备的F
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