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建立了连续深浮雕微透镜列阵光刻工艺的数学模型,通过计算机仿真实现了对工艺过程的模拟分析.为刻蚀过程中各参量的选取和刻蚀结果的分析提供了可靠的依据,对整个光刻工艺过程具有指导意义.
微透镜列阵光刻工艺过程的模拟与分析
【摘 要】
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建立了连续深浮雕微透镜列阵光刻工艺的数学模型,通过计算机仿真实现了对工艺过程的模拟分析.为刻蚀过程中各参量的选取和刻蚀结果的分析提供了可靠的依据,对整个光刻工艺过
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所
【出 处】
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微纳电子技术
【发表日期】
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2003年12期
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