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本文基于改善光场分布的考虑，在掩模上添加了适当的散射条和抗散射条，成功地改善了像面的光场分布，达到了光学邻近效应校正的目的。
基于光场分布的光学邻近效应校正
【摘 要】
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本文基于改善光场分布的考虑，在掩模上添加了适当的散射条和抗散射条，成功地改善了像面的光场分布，达到了光学邻近效应校正的目的。
【机 构】
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四川大学物理系
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1998年1期
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