直接光CVD SiO_2膜沉积速率的研究

来源 :四川大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:wuai000
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根据光吸收定律和边界层理论 ,得到了直接光CVDSiO2 膜的沉积速率方程RSiO2 =∑ i,j,λKiDiNSiO2ρU0μLI0λ[1-e- (βj·PjCTPT·X) ],此方程与实验结果基本相符 . According to the law of light absorption and the boundary layer theory, the deposition rate equation of direct photo CVDSiO2 film is obtained. The equation is basically consistent with the experimental results.
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