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将不同层数堆叠和化学气相沉积法（CVD）生长的石墨烯在室温下进行拉曼光谱表征分析其层间耦合状态，并分析了不同温度下堆叠和CVD生长的双层石墨烯温度对其层间耦合的影响。研究结果表明：室温下CVD生长双层石墨烯和堆叠双层石墨烯的层间耦合状态截然不同；在25～250℃范围内，层间没有耦合作用或存在弱耦合作用的堆叠双层石墨烯的G峰峰位温度系数小于存在电子耦合的CVD生长双层石墨烯；超过250℃后，堆叠双层石墨烯G峰峰位温度系数变为正值，层与层之间可能产生了耦合，性质发生改变；在25～400℃范围内两种材料的2D峰