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铜基形状记忆合金具有价格低廉、热稳定性好和高温应用前景等优点,然而晶间断裂和晶粒粗大是其目前未得到实用化的技术关键.本文概述了铜合金产生晶间断裂及晶粒粗大的原因,总结了目前该合金的晶粒细化方法及其优缺点,并指出了直流脉冲电场处理是有发展潜力的方法,同时探索了该合金的应用前景.
铜基记忆合金晶粒细化研究现状和发展趋势
【摘 要】
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铜基形状记忆合金具有价格低廉、热稳定性好和高温应用前景等优点,然而晶间断裂和晶粒粗大是其目前未得到实用化的技术关键.本文概述了铜合金产生晶间断裂及晶粒粗大的原因,
【机 构】
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辽宁工学院材料与化学工程学院
【出 处】
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辽宁工学院学报
【发表日期】
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2004年5期
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