硼膜多步骤注N的镀层结构研究

来源 :中国表面工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：chenhuiww060606

【摘要】

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用离子束溅射硼靶,在W6Mo5Cr4V2钢上沉积一层硼膜,再用反冲注入法注氮以形成氮化硼(BN),注入时采用逐次递减能量(即50 keV,30 keV,10 keV)的多步骤注入.用XPS分析膜的成分深

【作者】

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唐云张平谭俊蔡志海

【机构】

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装甲兵工程学院

【出处】

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中国表面工程

【发表日期】

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2002年4期

【关键词】

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硼膜镀层离子注入氮化硼结构 implantation boron nitride microstructure

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用离子束溅射硼靶,在W6Mo5Cr4V2钢上沉积一层硼膜,再用反冲注入法注氮以形成氮化硼(BN),注入时采用逐次递减能量(即50 keV,30 keV,10 keV)的多步骤注入.用XPS分析膜的成分深度分布及元素的化学价态;用傅立叶红外(FTIR)反射谱分析膜的结构,结果表明:膜基界面产生混合,与用单一能量注入相比,多步骤注入时,膜层的N/B分布比较均匀;硼在膜中以BN形式存在,膜深度较大处为a-BN或h-BN,并且随着深度的降低,膜有向c-BN转化的趋势.

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