【摘 要】
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利用低压化学气相沉积方法在以Au作催化剂的Si衬底上生长了InN纳米线.扫描电子显微镜分析表明,这些纳米线的直径在60-100 nm的范围内,而其长度大于1 μm.高分辨透射电子显微
【机 构】
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兰州大学物理科学与技术学院,深圳大学物理科学学院
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利用低压化学气相沉积方法在以Au作催化剂的Si衬底上生长了InN纳米线.扫描电子显微镜分析表明,这些纳米线的直径在60-100 nm的范围内,而其长度大于1 μm.高分辨透射电子显微镜图像表明,合成的纳米线中含有六方相和立方相的InN晶体.这些InN纳米线具有良好的场发射特性和稳定的场发射电流,其开启场为10.02 V/μm(电流密度为10 μA/cm2),在24 V/μm 的电场下,其电流密度达到5.5 mA/cm2.此外,对InN纳米线的场发射机理也进行了讨论.
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