多晶硅电阻工艺技术研究

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本文叙述了多晶硅薄膜的制备以及作为集成电路中的负载电阻的基本原理。重点阐述在高频、低功耗、高速双极模拟超大规模集成电路制造过程中多晶硅电阻工艺技术的两究、开发与应用,并列出了经优化的工艺条件及相关的试验数据。 This paper describes the preparation of polycrystalline silicon thin film and as a basic principle of load resistance in integrated circuits. The research, development and application of polysilicon resistance process technology in the process of manufacturing high frequency, low power consumption and high speed bipolar analog large scale integrated circuits are mainly described. The optimized process conditions and related test data are also listed.
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