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根据当前等离体化学气相沉积（ＰＶＣＤ）炉所存在的电场及供气分布不均等问题，提出一种新的设计方案。其特征在于真空室内的阳极筒由控制电机通过传动机我带动旋转，反应气体通过旋转的气流分配系统导入真空室；本设计的预期效果是在进行ＰＣＶＤ处理时，通过旋转校正阳极筒椭圆度和工作时自身变形所造成的电场分布不均，并能使反应气体在工件面大面积内达到均匀分布，以提高表面沉积层的厚度一致性及其致密性。