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期刊论文
SIPOS纵向结构对晶体管电压特性的影响
SIPOS纵向结构对晶体管电压特性的影响
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dh9998
【摘 要】
:
通过对半绝缘多晶硅(SIPOS)膜纵向结构均匀性不同结果的对比,论述了SIPOS膜成分的纵向结构分布对晶体管的钝化作用的影响,同时根据实际生产提出一些改进SIPOS膜结构的方法.
【作 者】
:
石青宏
厉策
王军
何慧强
【机 构】
:
深爱半导体有限公司
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
2003年4期
【关键词】
:
SIPOS
纵向结构
晶体管
电压特性
半绝缘多晶硅
掺氧多晶硅
膜结构
SIPOS
oxygen-doped polycrystalline-silicon
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通过对半绝缘多晶硅(SIPOS)膜纵向结构均匀性不同结果的对比,论述了SIPOS膜成分的纵向结构分布对晶体管的钝化作用的影响,同时根据实际生产提出一些改进SIPOS膜结构的方法.
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