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激光掺杂是一种现阶段比较容易实现的、低成本的选择性发射极制备方案,本文研究了在采用532nm激光制备多晶硅选择性发射极电池中,在取得相同目标方阻值的前提下,不同激光工艺(脉冲重叠比例和单脉冲能量)对电池效率提高的波动影响和分析。
激光工艺对选择性发射极多晶硅电池影响的研究
【摘 要】
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激光掺杂是一种现阶段比较容易实现的、低成本的选择性发射极制备方案,本文研究了在采用532nm激光制备多晶硅选择性发射极电池中,在取得相同目标方阻值的前提下,不同激光工艺
【机 构】
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英利能源（中国）有限公司,河北金融学院
【出 处】
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中国房地产业
【发表日期】
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2015年Z2期
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