高磷含量Ni-W-P镀层热处理晶粒尺寸及微应变的演变

来源 :材料热处理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qzccj
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用XRD定量分析法研究了两种成分的高磷Ni-W-P镀层在不同热处理条件下的晶化组织、晶粒尺寸及微应变的演变规律。结果表明:在400℃晶化时,尽管P含量有所差异,但镀层的晶化程度趋于一致,且在400~500℃之间形成的Ni3P晶粒尺寸大于Ni;加热温度超过500℃,则Ni的尺寸大于Ni3P。温度达到700℃时,仍有残存的非晶相,其P含量越高,Ni3P转变的体积分数越大于Ni的分数。用XRD方法实测得到的残余应力温度范围在400~700℃之间,残余应力随温度升高而降低的变化规律与通过XRD计算的晶格应变的变化规律一致。镀态时镀层的晶格应变最大,非晶态程度越高,晶格应变越大。 The evolution of the microstructure, grain size and micro-strain of the two compositions of high-phosphorus Ni-W-P coatings under different heat treatment conditions were studied by XRD quantitative analysis. The results show that the crystallization degree of the coating tends to be consistent with the difference of P content at 400 ℃, and the Ni3P grain size is larger than Ni between 400 ℃ and 500 ℃. When the heating temperature exceeds 500 ℃, The size of Ni is larger than that of Ni3P. When the temperature reaches 700 ℃, there is still a residual amorphous phase, the higher the content of P, the volume fraction of Ni3P transformation is greater than the fraction of Ni. The temperature residual stress measured by XRD method is in the range of 400-700 ℃. The variation of residual stress decreases with the increase of temperature, which is consistent with the variation of lattice strain calculated by XRD. The lattice strain of the plated layer is the largest when plated, and the higher the amorphous state, the larger the lattice strain.
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