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在半导体投影光刻机中,对因工艺处理产生的非对称型相位光栅对准标记作了详细分析,提出了关于衍射效率、对准信号及对准误差的计算模型,并着重分析了CMP型对准标记和金属淀积型标记的相应特点。
投影光刻中非对称型相位光栅对准信号及对准误差计算模型
【摘 要】
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在半导体投影光刻机中,对因工艺处理产生的非对称型相位光栅对准标记作了详细分析,提出了关于衍射效率、对准信号及对准误差的计算模型,并着重分析了CMP型对准标记和金属淀积
【机 构】
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上海微高精密机械工程有限公司
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2012年5期
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