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研究X型分子筛在多孔陶瓷载体上的生长条件,合成膜的晶化液组成n(SiO2)/n(Al2O3)＝3.0～5.0,n(Na2O)/n(SiO2)＝1.3～9.8,n(H2O)/n(SiO2)＝120～800;晶化温度 85～105 ℃;晶化时间 24～96 h.SEM显示多孔陶瓷载体上负载生长分子筛膜要经过6～7次涂膜操作,才能获得较理想的均匀连续的顶膜,膜厚10～25 μm.考察了晶化液的配方、合成条件及晶化次数对分子筛负载量的影响,多孔载体的表面形貌及规格对表面膜均匀连续性的影响等.结果表明,成膜的渗透通量下降为载体的7%～9%,分子筛膜选透率用(C4H9)3N和(C4F9)3N的纯蒸汽表征,在350 ℃下(C4F9)3N对(C4F9)3N的选透率达到69.