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本文论述用于１．０微米ＣＭＯ双层多晶双层金属工艺分析及评价的ＰＣＭ技术，按器件参数，工艺参数和随机失效等几大类来论述ＰＣＭ设计思想、设计规则及所需测试的工艺参数的种类，定义方法和测试规范等一系列问题，并对实际测试中出现的问题作一些简要分析。
φ125mm圆片1μm PCM参数测试技术
【摘 要】
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本文论述用于１．０微米ＣＭＯ双层多晶双层金属工艺分析及评价的ＰＣＭ技术，按器件参数，工艺参数和随机失效等几大类来论述ＰＣＭ设计思想、设计规则及所需测试的工艺参数的种类，定义方法和测试规范等一
【机 构】
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中国华晶电子集团公司中央研究所,214035
【出 处】
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微电子技术
【发表日期】
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1996年4期
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