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纳米薄膜厚度的X射线测量
纳米薄膜厚度的X射线测量
来源 :理化检验(物理分册) | 被引量 : 0次 | 上传用户:zliang_1981
【摘 要】
:
研究了通过小角度X射线衍射(XRD)技术测量纳米薄膜沉积厚度与沉积速率的方法,并测定了在SiC表面沉积Fe纳米薄膜的厚度和沉积速率。结果表明,采用小角度XRD技术测量纳米薄膜厚度
【作 者】
:
赖倩茜
李戈扬
竺品芳
毛顺娟
【机 构】
:
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室上海200030,上海交通大学高温材料及高温测试教育部开放实验室上海200030
【出 处】
:
理化检验(物理分册)
【发表日期】
:
2000年12期
【关键词】
:
纳米薄膜
X射线测量
小角度
XRD
沉积速率
基片
X射线衍射
技术测量
表面沉积
厚度
Nanometer filmsThickness measureme
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研究了通过小角度X射线衍射(XRD)技术测量纳米薄膜沉积厚度与沉积速率的方法,并测定了在SiC表面沉积Fe纳米薄膜的厚度和沉积速率。结果表明,采用小角度XRD技术测量纳米薄膜厚度和沉积速率,能克服基片性质、表面平整度和金属膜氧化的影响,准确、方便地测量纳米薄膜的厚度和沉积速率。
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