【摘 要】
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电弧离子镀所制备薄膜中的大颗粒缺陷是研究热点之一。本文对其清除方法进行了概述,主要包括阻挡过滤、电场抑制、工艺优化和磁场消除等方法,并对其工作原理、发展历程和未来
【机 构】
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郑州航空工业管理学院机电工程学院,哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室,
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电弧离子镀所制备薄膜中的大颗粒缺陷是研究热点之一。本文对其清除方法进行了概述,主要包括阻挡过滤、电场抑制、工艺优化和磁场消除等方法,并对其工作原理、发展历程和未来研究的方向进行总结,比较了各种方法存在的优缺点。最终提出了多级磁场直管磁过滤装置和脉冲偏压电场组合的电弧离子镀方法。
It is one of the hot topics to study the large particle defects in thin films prepared by arc ion plating. This paper summarizes the removal methods, including the methods of blocking filtration, electric field suppression, process optimization and magnetic field elimination, and summarizes the working principle, development history and future research directions, compares the advantages and disadvantages of various methods . Finally, the arc ion plating method combining multi-stage magnetic field straight tube magnetic filtration device and pulsed bias electric field is proposed.
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