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介绍了一种新的膜淀积技术－ＰＹＲＯＳＯＬ技术的原理和方法，总结了一些化合物薄膜的制备条件，给出了Ｆｅ２Ｏ３、ＺｒＯ２薄膜生长的影响因素。还介绍了ＳｉＯ２膜的ＰＹＲＯＳＯＬ溶胶－凝胶制备方法。
PYROSOL薄膜淀积技术
【摘 要】
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介绍了一种新的膜淀积技术－ＰＹＲＯＳＯＬ技术的原理和方法，总结了一些化合物薄膜的制备条件，给出了Ｆｅ２Ｏ３、ＺｒＯ２薄膜生长的影响因素。还介绍了ＳｉＯ２膜的ＰＹＲＯＳＯＬ溶胶－凝胶制备方法。
【机 构】
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中国科学院上海硅酸盐研究所
【出 处】
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传感器技术
【发表日期】
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1998年4期
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