【摘 要】
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分析了磁流变化学抛光的加工机理,对蓝宝石基片的磁流变化学抛光进行了试验研究。结果表明：磁流变化学抛光可将蓝宝石基片加工到亚纳米级粗糙度的超光滑镜面,材料去除率受化学
【机 构】
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湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心,大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室,长沙纳美特超精密制造技术有限公司.长沙430100
【基金项目】
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国家自然科学基金(51205120);国际科技合作与交流专项(2014DFG72480);大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室开放基金资助项目
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分析了磁流变化学抛光的加工机理,对蓝宝石基片的磁流变化学抛光进行了试验研究。结果表明：磁流变化学抛光可将蓝宝石基片加工到亚纳米级粗糙度的超光滑镜面,材料去除率受化学反应速率和剪切去除作用共同影响,化学反应速率越快,剪切去除作用越强,材料去除率越高;混有硅胶溶液与α-Al2O3磨料的磁流变化学抛光液去除率最高;材料去除率随工作间隙,励磁间隙以及加工时间的增大而减少,随铁粉浓度减少而减少;利用磁流变化学抛光方法加工蓝宝石基片可获得Ra 0.3 nm的超光滑表面。
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