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研究可见光波段亚波长防伪光栅的制做．给出了用2θ夹角一次光刻、2θ夹角摆动δ角两次光刻和2θ夹角旋转β角两次光刻等干涉光刻工艺设计和构建可见光波段亚波长光栅微结构的基本原理．优化设计的干板表面曝光量分布函数可用于构建特定面形分布的光栅微结构．制作了可见光波段的1维和2维亚波长光栅微结构，给出了其SEM和AFM实验数据和理论分析图形，检验了微结构的彩色防伪光变效果．实验结果表明：该干涉光刻工艺能够构建出表面光滑、深度较大的复杂光栅微结构。并能展现出一定的彩色光变效果．