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采用渠道火花烧蚀技术，在普通玻璃基板上制备掺锌硫化铜铝CuAl0.90Zn0.10S2透明导电薄膜。运用X射线衍射法（XRD）和原子力显微镜（ARM）分析薄膜的晶体结构和表面形貌。研究不同的制备条件对薄膜光电性能的影响。结果显示，薄膜表面平整致密，均为p型导电。氩气压强和基板温度对薄膜的电阻率和载流子浓度具有显著影响，例如，随着氩气压强增加，电阻率会先降低再上升，而载流子浓度则先增加再降低。在优化的制备条件下，薄膜的电阻率最小值为0．2Ω·cm，载流子浓度为6．67×10^18cm^-