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采用脉冲激光沉积（PLD）技术，以α-Al2O3（001）为衬底，在不同衬底温度下制备ZnO薄膜。利用X射线衍射（XRD）和同步辐射掠入射X射线衍射（GID）研究了薄膜的结晶性能和薄膜与衬底的界面结构。实验结果表明，在衬底温度较低（450℃）时，ZnO薄膜主要受衬底拉应力的作用，使界面处a方向的晶格常数增大；而在衬底温度较高（750℃）时，ZnO薄膜主要受衬底压应力的作用，使界面处a方向的晶格常数减小；在优化的衬底温度（650℃）下，ZnO薄膜受到的衬底应力较小，结晶性最好。且ZnO薄膜垂直方向的晶格排列