退火温度对Zn1-xCdxO薄膜的结构和光学性能的影响

来源 :吉林师范大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：sidiss

【摘要】

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利用直流反应磁控溅射的方法和后退火技术在石英衬底上制备了Zn_（1-x）Cd_xO（x=0.5）薄膜.利用XRD、XPS、TEM、Absorption及PL等详细地研究了退火温度对薄膜的结构和光学性能的影响

【作者】

：

隋瑛锐于国娜王子涵朱文斗

【机构】

：

吉林师范大学物理学院

【出处】

：

吉林师范大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2017年2期

【关键词】

：

磁控溅射 Zn1-xCdxO薄膜结构光电性能退火温度 magnetron sputtering Zn1-xCdxO film structure

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利用直流反应磁控溅射的方法和后退火技术在石英衬底上制备了Zn_（1-x）Cd_xO（x=0.5）薄膜.利用XRD、XPS、TEM、Absorption及PL等详细地研究了退火温度对薄膜的结构和光学性能的影响.结果表明：原生未退火的Zn_（1-x）Cd_xO薄膜具有纯ZnO的六角纤锌矿结构并且在（002）晶面方向上择优生长;当退火温度（Ta）从300℃增加到600℃时,观察到薄膜中出现了CdO杂相;而且,随着Ta的增加,Zn_（1-x）Cd_xO薄膜的光学带隙由2.08 e V增加至3.14 e V;相应地

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