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用离子束溅射硼靶，在W6Mo5Cr4V2钢上沉积一层硼膜，然后用反冲注入的方法注氮以形成氮化硼(BN)，注入时采用逐次递减的能量，即50keV，30keV，10keV(称之为多步骤注入)。用XPS分析膜的成分深度分布及元素的化学价态：用傅立叶红外(FTIR)反射谱分析膜的结构，结果表明：膜基界面产生混合，与用单一能量注入相比，多步骤注入时，膜层的N／B分布比较均匀；硼在膜中以BN形式存在，膜深度较大处为a-BN或h-BN，并且随着深度的降低，膜有向c-BN转化的趋势。