ALE InAs/GaAs量子阱的受激辐射

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原子层外延(ALE)技术以其单原子层构置和精确控制层厚的特点一直吸引着人们的注意力,成为目前可与MQCVD和MBE等制备超晶格材料技术相比较的一种有效手段,并且不断受到人们的改进和提高。最近,美 Atomic-layer epitaxy (ALE) has attracted people’s attention due to its monolayer structure and precise control of layer thickness, which is an effective method that can be compared with MQCVD and MBE to prepare superlattice materials , And continue to be people’s improvement and improvement. Recently, the United States
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