论文部分内容阅读
介绍了接触式X射线曝光对准系统的设计原理，对其关键部分(精密调整台、微位移控制、对准光学系统等)做了详细阐述，并进行了系统的精度分析。
亚微米接触式X射线曝光对准系统
【摘 要】
：
介绍了接触式X射线曝光对准系统的设计原理，对其关键部分(精密调整台、微位移控制、对准光学系统等)做了详细阐述，并进行了系统的精度分析。
【机 构】
：
中国科学院光电技术研究所
【出 处】
：
微细加工技术
【发表日期】
：
2001年1期
其他文献
利用硅单晶的特殊结构可以设计出不同角度的闪耀光栅,再使用MEMS的紫外光刻、各向异性腐蚀等常规工艺就可以完成硅闪耀光栅的制作.设计了一种利用偏转晶向(111)硅片制作小角