Zn缺陷对ZnO薄膜光学特性的影响

来源 :辽宁大学学报：自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：winterzeng

【摘要】

：

采用射频磁控溅射方法在熔石英玻璃衬底上制备了ZnO薄膜．薄膜的X射线衍射（XRD）分析表明样品具有较好的结晶性和良好的C轴取向．光致发光（PL）性能分析发现，分别在398nm和470nm波长出现

【作者】

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谭天亚陈俊杰单晶江雪吴炜郭永新

【机构】

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辽宁大学物理学院沈阳市光电子功能器件与检测技术重点实验室

【出处】

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辽宁大学学报：自然科学版

【发表日期】

：

2009年1期

【关键词】

：

ZNO薄膜光致发光 Zn缺陷 ZnO films photoluminescence Zn defects.

【基金项目】

：

辽宁省教育厅科研计划（2008224）,辽宁省科技厅科研计划（20081030）.

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采用射频磁控溅射方法在熔石英玻璃衬底上制备了ZnO薄膜．薄膜的X射线衍射（XRD）分析表明样品具有较好的结晶性和良好的C轴取向．光致发光（PL）性能分析发现，分别在398nm和470nm波长出现了较强的发光峰，与ZnO薄膜通常的发光峰位置明显不同．通过分析表明，398nm波长的发光峰是由于导带电子跃迁到Zn空位引起，470nm波长的发光峰是由于间隙Zn电子跃迁到Zn空位上而产生．

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