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以单晶硅作为研究对象，选用离子注入剂量分别为5×10^14ions／cm^2、6×10^15ions／cm^2和1×10^17ions／cm^2，注入能量为110keV的氮离子注入单晶硅片，利用原位纳米力学测试系统对氮离子注入前后单晶硅片的硬度和弹性模量进行测定，在UMT-2型微摩擦磨损试验机上对氮离子注入前后单晶硅片的往复滑动微摩擦磨损性能进行研究．结果表明，氮离子注入后单晶硅片的纳米硬度和弹性模量减小，且注入剂量越大，其降低越明显．氮离子注入后单晶硅片的减摩性能提高，其摩