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采用离子束溅射方法制备了不同名义厚度的非连续Ni金属膜.用原位的直流电导和交流介电谱方法研究了其活化能与薄膜名义厚度的关系;通过原子力显微镜测量了颗粒直径和颗粒间距,估算出薄膜的充电能.比较表明,薄膜的活化能和充电能近似相等,与薄膜名义厚度的关系也很相近,符合Sheng-Abeles模型关于活化能来源于充电能的假设.