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等离子清洗工艺是半导体、薄膜厚膜电路、元器件封装前、芯片键合前等行业的精密清洗辅助工序,清洗效果的好坏会对最终产品质量的好坏有决定性的影响,现有的等离子清洗工艺存在清洗不均匀等问题,通过改变反应仓内的气流方向,能够有效改善等离子清洗工艺,并对工件清洗不均匀问题得到很大改善。
气体流向对等离子清洗工艺的影响
【摘 要】
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等离子清洗工艺是半导体、薄膜厚膜电路、元器件封装前、芯片键合前等行业的精密清洗辅助工序,清洗效果的好坏会对最终产品质量的好坏有决定性的影响,现有的等离子清洗工艺存
【机 构】
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中国电子科技集团公司第二研究所
【出 处】
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山西电子技术
【发表日期】
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2020年1期
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