论文部分内容阅读
提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形，然后结合干法刻蚀刻将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上，从而使最终的元件达到设计的浮雕度。作者对整个过程进行了考察和讨论，并以微棱镜为进行了实验验证中心为进一步制作大数值孔微光学元件打下了技术基础。