【摘 要】
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采用HWCVD法双面沉积aGSi∶H 膜钝化n-CzGSi片表面,利用光谱型椭偏测试仪和傅里叶红外光谱仪研究沉积气压、电流和热丝衬底间距对a-Si∶H 薄膜结构及钝化性能的影响.结果表明
【机 构】
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南昌大学光伏研究院,南昌工程学院理学院,贵州师范大学物理与电子科学学院
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采用HWCVD法双面沉积aGSi∶H 膜钝化n-CzGSi片表面,利用光谱型椭偏测试仪和傅里叶红外光谱仪研究沉积气压、电流和热丝衬底间距对a-Si∶H 薄膜结构及钝化性能的影响.结果表明,（1）薄膜中SiH2键相对SiH 键含量随气压升高逐渐减少,随电流增大先减少后增大;（2）热丝衬底间距4.0cm 相比7.5cm沉积的a-Si∶H 薄膜微观结构中,SiH2键相比SiH 键的比例更高,钝化效果也更好;（3）本文范围内,工艺参数分别为热丝衬底间距4.0cm 时气压1.5Pa,沉积电流21.5A 情况下钝化效
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